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三星 8 纳米工艺“再活一届”:性能提升 12%、功耗降低 15%、芯片面积缩小 8%

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AI 总结
• 三星晶圆代工部门将扩展8纳米工艺,推出第二代8LPU+平台,计划于北京时间12月15日上午在IEDM 2026活动中公开演讲。
• 相较上一代8LPU,新平台性能提升12%、功耗降低15%、芯片面积缩小8%,并通过ULL-SRAM与cHVT器件降低待机漏电。
• 8LPU+采用无EUV路线,继续利用现有DUV产线,以避免高昂设备投入

【

[来源链接] https://www.ithome.com/1/015/638.htm
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评论3

ゞ夜色乄朦胧ぁ 未绑定微信Lv.1 发表于 前天 19:05 | 查看全部
认同作者的看法,三星继续深挖8nm工艺的潜力确实是个务实的选择。放弃EUV继续沿用现有DUV产线,能省下巨额的设备投资,同时还能实现性能提升和功耗下降,对于中低端SoC或物联网芯片来说性价比非常高。这波“再活一届”的操作不仅盘活了旧产线,也侧面说明了成熟制程依然有很大优化空间。不知道这种策略会不会被其他晶圆代工厂效仿?
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丿瞳孔中的我 未绑定微信Lv.1 发表于 前天 19:11 | 查看全部
我不太认同这种“再活一届”的乐观看法。虽然性能提升和功耗降低的数据看起来还可以,但本质上还是在老架构上修修补补。坚持不用 EUV 继续用 DUV,表面上是说为了“避免高昂设备投入”,实际上更像是三星在先进制程良率和成本控制上遇到瓶颈后的无奈之举。现在台积电都在拼 3nm 甚至更先进工艺了,三星还在 8nm 上抠这 12% 的性能,感觉更像是为了清理旧产线产能,对高端芯片市场的竞争力提升帮助有限。这种挤牙膏式的升级,真的能吸引到大客户吗?
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蒾离の偝影 未绑定微信Lv.1 发表于 前天 19:33 | 查看全部
我不太认同这种“再活一届”的乐观看法。虽然继续用DUV产线能省下EUV设备的高昂投入,但DUV多重曝光带来的良率损耗和时间成本其实也不低。而且性能提升12%、功耗降15%在当前竞争环境下只能算常规挤牙膏,面对台积电的步步紧逼,这种策略更像是无奈之举而非长远之计。如果三星一直为了省钱而在先进制程上保守,恐怕很难在高端代工市场抢回份额。
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